製造設備紹介
| 高温反応釜（コンピューター制御）熱媒 ～３００℃ | |
|---|---|
| ６，０００Ｌ |
２基（希釈槽１０，０００Ｌ ２基） |
| ５，０００Ｌ | ２基（希釈槽１０，０００Ｌ ２基） |
| ２，０００Ｌ | ２基（希釈槽４，０００Ｌ ２基） |
| ６００Ｌ | １基（希釈槽１，２００Ｌ） |
| 低温反応釜（コンピューター制御）蒸気 ～１３０℃（一部１５５℃） | |
|---|---|
| ２，０００Ｌ | ２基（滴下アクリル反応用） |
| ２，０００Ｌ | １基（グラスライニング） |
| １，５００Ｌ | １基（グラスライニング） |
| ６００Ｌ | １基（グラスライニング） |
| 混合、溶解釜 | １，５００Ｌ | １基 |
|---|---|---|
| ３，５００Ｌ | ２基 |
| 分 散 機 | ７００Ｌ | １基（ディスパー） |
|---|---|---|
| １，０００Ｌ | ２基（ディスパー） | |
| １，５００Ｌ | ３基（ディスパー） | |
| １，０００Ｌ | １基（ターボミキサー） |
| 公害対策設備 | 触媒燃焼式脱臭装置一式 |
|---|---|
| 沈殿式排水前処理装置一式 | |
| 活性汚泥廃水処理一式 | |
| 無煙式焼却炉 |
| ボイラー | 貫流式熱媒ボイラー | １基 |
|---|---|---|
| 貫流式蒸気ボイラー | ２基 |
| 高圧ガス貯蔵タンク | 窒素ガス貯蔵タンク | １基 |
|---|
