昭和ワニスでは、高品質な製品を安定してお届けするため、最新のコンピューター制御反応釜をはじめとする充実した設備を整えています。環境に配慮し、公害対策設備も完備。熟練の技術と最新鋭のマシンを融合させ、多種多様なニーズに最適な配合で応え続ける、当社のものづくりを支える製造拠点の全容をご紹介します。
●6,000Ｌ 2基（希釈槽10,000Ｌ 2基）
●5,000Ｌ 2基（希釈槽10,000Ｌ 2基）
●2,000Ｌ 2基（希釈槽4,000Ｌ 2基）
●600Ｌ 1基（希釈槽1,200Ｌ）
●2,000Ｌ 2基（滴下アクリル反応用）
●2,000Ｌ 1基（グラスライニング）
●1,500Ｌ 1基（グラスライニング）
●600Ｌ 1基（グラスライニング）
＜混合、溶解釜＞
●1,500Ｌ 1基
●3,500Ｌ 2基
＜分散機＞
●700Ｌ 1基（ディスパー）
●1,000Ｌ 3基（ディスパー）
●1,500Ｌ 3基（ディスパー）
●1,000Ｌ 1基（ターボミキサー）
●触媒燃焼式脱臭装置一式
●沈殿式排水前処理装置一式
●活性汚泥廃水処理一式
●無煙式焼却炉
●貫流式熱媒ボイラー 1基
●貫流式蒸気ボイラー 1基
●窒素ガス貯蔵タンク 1基
